激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用
黄􀀁 河
1
, 朱􀀁 晓
1*
, 朱长虹
1
, 朱广志
1
, 李跃松
2
, 张􀀁 沛
2
, 万承华
2
( 1. 华中科技大学激光工程研究院, 武汉430074; 2. 清溢精密光电有限公司, 深圳518000)
摘要: 为了对光掩模版亮场缺陷进行修补, 采用激光化学气相沉积的方法, 利用功率密度为1. 3 􀀂 108W / cm2 的
355nm 紫外激光诱导C r( CO) 6 分解, 在1. 5s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜。结果表明, 在
开放的环境下, 采用高功率密度、短作用时间的方法能够得到高质量的沉积薄膜, 满足了微电子行业中对掩模版修复的
要求。
关键词: 激光技术; 光化学; 光掩模修复; 激光化学气相沉积; 开放式