本文件规定了射频电源动态阻抗测试方法的术语和定义、原理、测试环境条件、仪器设备、测试方法、测试报告。
本文件适用于半导体刻蚀、薄膜沉积等应用场合中，输出频率0.2 MHz～100 MHz的射频电源动态阻抗测试。